Prosím čekejte...
Nepřihlášený uživatel
logo VŠCHT
iduzel: 30011
idvazba: 38199
šablona: api_html
čas: 9.8.2020 20:10:44
verze: 4671
uzivatel:
remoteAPIs: https://cis-web-test.vscht.cz/studijni-system/
branch: trunk
Obnovit | RAW

Kinetika a mechanismy vysokoteplotních procesů

Přednáška Cvičení/laboratoř
2019, letní semestr
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
21
Po
Út
St
Čt
Examinace zkouška
Jazyk výuky čeština
Úroveň doktorský předmět
Garant prof. Ing. Josef Matoušek, DrSc.

Anotace

Předmět se zabývá procesy, které nastávají při tavení skla a výpalu keramiky, základními představami o jejich mechanismu a matematickým popisem jejich dílčích dějů.

Sylabus





1. Vysokoteplotní procesy - základní charakteristika a klasifikace
2. Kinetika vysokoteplotních procesů - formální kinetika chemických reakcí, transport tepla a hmoty
3. Interakce pevných látek s plyny - typy interakcí, reakční mechanismy, oxidační reakce,reakce s halogeny a s vodní parou, koroze pevných látek plyny
4. Interakce pevných látek s kapalinami - typy interakcí, mechanismus rozpouštění a koroze
5. Reakce v pevném stavu, matematický popis kinetiky
6. Interakce tavenin s plyny - typy mechanismů, matematický popis, modelování


Literatura

Z: Hlaváč J.: Základy technologie silikátů, SNTL/Alfa, Praha 1988
Z: Smrček A. a kol.: Tavení skla,ČSS Jablonec, 2008
Z: Hanykýř V., Kutzendorfer J.: Technologie keramiky,Vega, Praha 2000
D: Šatava V.: Fyzikální chemie silikátů, skripta VŠCHT Praha 1987
D: FradeJ.R., Cable M.: Reexamination of the basic theoretical model for the kinetics of solid state reactions, J.Amer.Ceram.Soc.75,1949-1957(1992)


VŠCHT Praha
Technická 5
166 28 Praha 6 – Dejvice
IČO: 60461373
DIČ: CZ60461373

Datová schránka: sp4j9ch

Copyright VŠCHT Praha
Za informace odpovídá Oddělení komunikace, technický správce Výpočetní centrum

VŠCHT Praha
na sociálních sítích
zobrazit plnou verzi